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1400℃真空/氣氛管式爐CVD系統(CVD-TF)

CVD-TF14P40/50/60/80 CVD-TF14T40/50/60/80
此CVD系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。 優點 爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附制成,溫場均勻節能50%以上
自主研發的空氣導流隔熱技術保證箱內各部件的使用壽命及恒溫效果
自動斷電、超溫保護功能、漏電保護功能,以確保使用的安全性…… 安全性 過升報警、菜單鎖定、過升防止、復電延時。
采用單向閥技術,使氣體流量在可控壓力范圍內控制,安全。
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■ 產品特點

提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環境

此款CVD生長系統適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。

產品性能:

1、爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附制成,溫場均勻節能50%以上

2、空氣導流隔熱技術保證箱內各部件的使用壽命及恒溫效果

3、啟動電爐,排溫風機同時自動運行,試驗結束后,排溫風機將繼續運行,直至爐體溫度低于60℃,排溫風機自行停止,有效保護了爐體表面

4、自動斷電、超溫保護功能、漏電保護功能,以確保使用的安全性

5、電路采用連續加熱輸出方式,雙回路供電,強弱電單獨走線提高了系統的穩定性

6、加熱模塊采用直流信號調節輸出功率,避免了感應電對控制信號的干擾

7、自動補償由于溫度或老化對硅碳棒阻值變化帶來的控溫影響,避免人為調節的不準確性和危險性

8、采用數顯流量顯示儀,配合質量流量控制器,采集數據并控制流量。重復性好,相應速度快,穩定等特點。(氣體質量流量控制系統)

9、自動控制與手動控制切換功能,自動控制模式能通過設定值自動開啟/關閉真空泵,使容器內保持在一定的真空壓力范圍內。手動控制模式使用用戶通過真空泵開啟/關閉按鈕直接操作真空泵。以滿足不同實驗的需要。(中真空控制系統)

10電磁閥緩啟動技術,使電磁閥在真空泵開啟10秒鐘后打開,使爐管內系統壓力保持準確,也保證了廢氣不會返回到爐管系統影響實驗效果(中真空控制系統)

安全性:

1、過升報警、菜單鎖定、過升防止、復電延時。

2、采用單向閥技術,使氣體流量在可控壓力范圍內控制,安全。

3、采用混氣罐裝置,使氣體可以在充分混合后導入工作室內,確保不會泄露。


■ 技術參數
型號單溫區CVD-TF14P40CVD-TF14P50CVD-TF14P60CVD-TF14P80

單溫區CVD-TF14T40CVD-TF14T50CVD-TF14T60CVD-TF14T80
性能使用溫度范圍300~1400
溫度分辨率1℃
控溫± 1
升溫速率0~20℃/min
加熱區長度200mm400mm
恒溫區長度70mm140mm
真空度-0.1MPa
空爐升溫時間15min

配置爐管時升溫速度500℃以下≤5/min;500-100010/min;1000-12005/min;1000-14002/min
構成外裝冷軋鋼板,表面耐藥品性涂裝
爐膛體多晶莫來石纖維
爐膛尺寸360*350*350mm560*350*350mm
爐管剛玉管
爐管尺寸Φ40/34*1000Φ50/44*1000Φ60/50*1000Φ80/70*1000
加熱器硅碳棒
加熱功率3KW5KW
斷熱層雙層強制風導流
打開方式
控制 器控制器P:進口程序控溫數碼顯示;   T:7寸彩色觸摸屏程序控溫
控制方式使用微型電腦PID控制
設定方式P:輕觸五按鍵動作、數顯設定;   T:手指觸摸輕點設定
顯示方式P:雙行LED數字顯示;   T:彩色液晶屏顯示
定時0~999.9小時
運行功能定值運行、程序運行
程序模式P:程序運行、4條曲線、共40步;    T:50步 可調用儲存程序
傳感器S型熱電偶
附屬功能P:校正功能;     T:校正功能、實時曲線記錄、U盤數據導出
安全裝置過流漏電保護開關
質量流量控制系統氣路數量3路(可根據具體需要選配氣路數量)
流量范圍0-0500sccm(標準毫升/分,可選配)氮氣標準
精度±1%F.S
響應時間≤4s
工作溫度(流量計)5-45
工作壓力進氣壓力0.05-0.3MPa(表壓力)
系統連接方式采用KF快速連接波紋管、高真空手動擋板閥及數顯真空測量儀
中真空控制系統系統真空范圍10-100Pa
真空泵雙級機械泵理論極限真空度3x10-1Pa,抽氣速率4L/s,出氣口配有油污過濾器,額定電壓200V,功率0.55Kw
CVD系統配置1400度真空管式爐       多路質量流量控制系統        真空系統


上一個:1200℃開啟式真空/氣氛管式爐CVD系統(CVD-TF)下一個:1600℃真空/氣氛管式爐CVD系統(CVD-TF)
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